The working groups involved in BINAS use state-of-the-art equipment and technology to prepare and analyse materials in the nanometer and micrometer range. In co-operation with industry, we make our experience and technology in material production and analysis available.
Preparation
Ultra-high vacuum electron beam evaporation
Metal organic vapour phase deposition (MOCVD)
Nanometer and micrometer lateral structuring
Chemical vapour deposition (CVD)
Physical vapour deposition (PVD)
Lithography in nanometer and micrometer structures, laser and electron beam writing and reactive ion etching (RIE)
Organic and inorganic (metallic and oxide) mono- and multilayers in the nm range
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